塩酸合成装置
特長
・安全で信頼性の高い運転
火炎検出器および安全弁と連動した信頼性の高い安全なインターロックを備え、異常時には自動停止を行う設計となっています。
・自動窒素パージ機能：失火や停電時には、自動的に窒素パージを行います。
・再起動制御：必要な全てのパラメータが規定条件に達するまで、再起動は行えません。
・遠隔自動起動
・無公害設計：本装置は排ガスが無公害であり、規制値を十分に満足するよう設計されています。
・高純度酸の生成： 製品酸は医薬品・食品用途にも適しています。
・幅広い能力設計： 2T/Dからの幅広い能力に対応可能で、ターンダウンは20%まで可能です。
・低圧運転： バーナーは低圧対応のグラファイト製です。
・低濃度塩素ガスの利用： 塩素濃度が低く、不活性ガスや酸素を多く含むガスでも合成が可能です。
プロセス概要
塩酸合成装置は、塩素と水素から高純度の塩酸溶液を製造するために設計・製作されています。
本装置は主に以下で構成されます
火炎
実際の燃焼温度は原料ガスの純度にもよりますが、最大2500℃に達します。
製品画像
無水塩酸ガス製造装置
特長
・高純度無水塩化水素
本装置は、30～33％の塩酸溶液から高純度無水塩化水素ガスを生成するよう設計されており、水分はppmレベルで制御されます。
・多様な条件に対応：製品ガスは、個々の要求に応じて様々な温度および圧力条件で供給可能です。
・幅広い製造能力範囲：製品ガスは、個々の要求に応じて様々な温度および圧力条件で供給可能です。
・長寿命・メンテナンスフリー：長期間の使用が可能で、メンテナンスの負荷が少ない設計となっています。
・ターンキー供給：制御計装・安全装置などを含めた一括供給が可能です。
・優れた操作性：起動・停止が容易に行えます。
・2種類のプロセス方式
1)副生成物22%HCl
塩化カルシウムを使用しない方式です。
共沸組成の約22%HClが副生成物として排出されます。
2)副生成物1%HCl
塩化カルシウムを使用する方式です。
共沸組成の約1%HClが副生成物として排出されます。
プロセス概要
30～33％の塩酸溶液から高純度の無水塩化水素ガスを製造するために設計・製作されています。
ガス中の水分含有量は非常に低く、多くの重要な化学反応用途に適した汎用性を有しています。
硫酸を用いた乾燥によってHClガスを生成する方式もありますが、その方式は製品ガス中の水分が多くなること、さらに激しい腐食や下流設備・排水処理の問題が生じるため、一般的には採用されていません。
本装置では、塩酸の蒸留により無水塩化水素ガスを生成します。
市販グレードの塩酸を対象に、不浸透性グラファイトの蒸留塔（充填塔またはトレイ塔）で蒸留が行われます。
蒸留に必要な熱は、不浸透性グラファイトのサーモサイフォンリボイラーによって供給されます。
このリボイラーは円柱ブロック型を採用します。
塩化水素ガスに随伴する水分は、上部の不浸透性グラファイトのノックアウトドラムで除去され、最終的に99.9％以上の純度が確保されます。
副生成物22%HClの場合は、蒸留塔下部から排出され、熱交換器で貯蔵可能な温度まで冷却します。
必要に応じて30～33%まで再濃縮する事も可能です。
副生成物1%HClの場合は、共沸をブレイクするために50%の塩化カルシウム溶液を添加します。
塩酸を含む約45%の塩化カルシウム溶液が蒸留塔下部から排出され、濃縮工程で50%まで濃縮し蒸留塔へ再循環します。
